国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病！

　　11月29日，中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。消息传着传着，就成了谣言——《国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁，弯道超车》《厉害了我的国，新式光刻机将打破“芯片荒”》……

　　笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会，写了报道，还算熟悉，无法苟同一些漫无边际的瞎扯。

　　中科院研制的这种光刻机不能(像一些网媒说的)用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。

　　先解释下：光刻机不光是制造芯片用。一张平面(不论硅片还是什么材料)想刻出繁复的图案，都可以用光刻——就像照相，图像投在感光底片上，蚀掉一部分。半个多世纪前，美国人用这个原理“印刷”电路，从而有了大规模集成电路——芯片。

　　为了节能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻机越做越极端。线条细到一定程度，投影就模糊了。要清晰投影，线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源，好刻10纳米以下的线条。

　　但稳定的、大功率的极紫外光源很难造，一个得3000万元人民币。要求工作环境严苛，配合的光学和机械部件又极端精密，所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机，创造了“一台卖一亿美金”的神话。

　　十几年前，国际上开始对表面等离子体(surface plasma，SP)光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究，是较早出成果的一个团队。所谓SP，光电所的科学家杨勇向笔者解释：拿一块金属片和非金属片亲密接触，界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上，这些电子就有序地震荡，产生波长几十纳米的电磁波，可用来光刻。

　　但这种电磁波很弱，所以光刻胶得凑近了，才能刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的，至少以现在的技术不能。

　　验收会上也有记者问：该光刻设备能不能刻芯片，打破国外垄断?光电所专家回答说，用于芯片需要攻克一系列技术难题，距离还很遥远。

　　总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。

　　各家媒体第一时间报出的信息，就我看到的还算中规中矩。但后来网媒添枝加叶，搞到离谱。有些传播者为吸引眼球、赚钱，最爱制造“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技成就先往大里吹，驴吹成马，马吹成骆驼，好卖个骆驼价。

　　这种“科技报道”是满足虚荣心的伪新闻。行家听了眉头一紧，避之大吉。也难怪许多科学家怕上新闻。