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 新锗晶体管速度是当今晶体管的4倍

   据国外媒体报道,MIT (麻省理工学院)的科学家已经研发出了一种新型晶体管,新的晶体管通过材料原子结构中的洞孔来让电流通过,速度是当前晶体管的 4 倍左右。

   img: http://www.chinahightech.com/admin/UploadFile/201314111141442.jpg

  为了能够提升速度,科学家们将锗放置在不同的硅层上和硅符合产品上,随后锗原子将与硅层结合起来,拉紧材料迫使最上层材料结构比它们的原始结构更加紧凑。听起来有点像我们用藤条改变植物的生长形状一样。  

  紧凑的结构导致锗材料之间的洞孔更加紧密,晶体管的速度达到当今大部分实验设计的2倍,市场上晶体管速度的 4 倍。
顶端 Posted: 2013-01-05 14:40 | [楼 主]
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