标题:光电所研制出3米长光栅复制光刻机
作者:wthwj
日期:2009-06-26 09:23
内容:
近日，一种新型“3米长光栅复制光刻机”在中科院光电技术所研制成功。这是该所继成功研发URE-2000系列大面积曝光机后创新研发的一项新型精密光刻设备。该机在母尺和工件间抽真空，采用蝇眼透镜的i线均匀照明系统，结合气浮工件台一维运动而实现大行程的扫描、真空接触、i线曝光。其照明均匀性为±2%，光刻分辨力优于5微米，照明面功率密度50mW/cm2，照明面积28mm×32mm；工件台匀速扫描行程大于3300mm，且扫描速度可在1mm-30mm/s范围任意调整与设定；整机实现计算机控制管理，液晶显示，中文界面，操作简便。该机衍射效应平滑、均匀照明、光源准直、真空接触、整机集成等颇具创意，具有精度高、可靠性好、自动、高效等特点，可广泛应用于高精度长光栅等长尺寸器件微细加工与生产。
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